[发明专利]等离子处理装置以及试料台有效

专利信息
申请号: 201310057014.2 申请日: 2013-02-22
公开(公告)号: CN103972130B 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 楠本广则;大本丰;中本和则;永井宏治 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种能够使晶片的温度变化高速化,提高温度调节的精度,提高处理效率的等离子处理装置。是将晶片放置在配置于真空容器内部的处理室内的试料台上,使用在上述处理室内形成的等离子处理上述晶片的等离子处理装置,具有在上述试料台的内部与在径向和圆周方向上划分的各个区域对应的加热器部分,具备至少径向外周侧的区域的加热器串联连接在各自上进行发热量调节的多个圆周方向部分。
搜索关键词: 等离子处理装置 加热器 试料台 晶片 室内 等离子处理 发热量调节 处理效率 晶片放置 区域对应 温度调节 真空容器 高速化 试料 外周 配置
【主权项】:
一种等离子处理装置,是将晶片放置在配置于真空容器内部的处理室内的试料台上,使用在上述处理室内形成的等离子处理上述晶片的等离子处理装置,其中,上述等离子处理装置包括多个加热器,上述多个加热器被配置在具有圆筒形状的上述试料台的内部,上述试料台的内部配置有圆板或圆筒形状的基材,上述多个加热器被配置于上述基材的上方,并且上述多个加热器被配置在关于从上述基材的中心朝向外周侧的径向以及上述中心周围的圆周方向被分成的多个区域内,上述等离子处理装置还包括:控制部,调节这些多个加热器的发热量;以及高频电源,对上述基材供给高频电力而在上述晶片的上方形成偏置电位,关于上述径向被分成的上述多个区域各自包括在上述中心周围的圆周方向上延伸的圆弧状的区域,在关于该径向被分成的多个区域的相邻的区域中,径向外侧的区域的上述圆弧状的区域具有沿着上述基材的中心周围的圆周方向的整周被分成多个而配置的多个区域,被分成多个的该区域的个数比上述相邻的径向内侧的区域的上述圆弧状的区域的个数多,在关于上述径向被分成的多个区域中的径向外侧的区域的至少一个区域中,一个该圆弧状的区域的被分成多个的上述区域分别配置有上述多个加热器中的一个,该多个加热器相对于一个直流电源串联连接构成串联电路,并且上述串联电路包括:多个调节器,与构成上述串联电路的上述多个加热器分别并联连接而构成该电路,并且调节流过各自被并联连接的各个加热器的电流的量;供电用线路,用于供应来自上述直流电源的电力,其中,构成上述串联电路的上述多个加热器中的一个加热器和关于上述圆周方向与该一个加热器邻接的另一个加热器分别连接于上述直流电源;以及用于上述高频电力的滤波器,在该供电用线路上配置在上述多个加热器和上述直流电源之间,上述控制部具有调节上述多个调节器的功能,通过该控制部调节上述多个加热器各自的发热量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310057014.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code