[发明专利]真空蒸镀方法及其装置无效

专利信息
申请号: 201310061001.2 申请日: 2013-02-27
公开(公告)号: CN103361605A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 若林雅;浅田干夫;郑载勋;李相雨 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种提高真空蒸镀中蒸镀材料的利用效率的有机EL器件的真空蒸镀装置及真空蒸镀方法。在有机EL器件的真空蒸镀装置中,为了防止来自蒸发源的加热器的辐射热直接使阴罩过热,而通过在加热器与阴罩之间设置水冷式的冷却板,从而能够使蒸镀源与阴罩的间隔与原来相比更狭窄,提高被蒸发的有机EL材料之中用于向基板上的成膜的比例从而提高蒸镀材料的利用效率。
搜索关键词: 真空 方法 及其 装置
【主权项】:
一种真空蒸镀装置,在真空排气后的腔室内,在面板状的基板上蒸镀因加热而被气化的蒸镀材料,上述真空蒸镀装置的特征在于,具备:保持基板的保持机构;使蒸镀材料气化并在从配置成线状的多个喷嘴放出的一个方向上具有较长形状的蒸发源;在与上述蒸发源的较长的一个方向垂直的方向上使上述蒸发源或保持上述基板的保持机构的至少一个移动的移动机构;以及检测来自上述蒸发源的上述蒸镀材料的放出速率的检测机构,上述蒸发源具有:容纳蒸发材料的蒸发材料容纳部、加热容纳在该容纳部的蒸发材料的加热部、以及位于该加热部与上述保持机构之间并遮挡从上述加热部产生而朝向上述基板的辐射热的在内部具备冷却水的通路的冷却部。
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