[发明专利]光感测元件及其制作方法

摘要

本发明涉及一种光感测元件，包含金属导电层、界面介电层、富硅介电层以及透明导电层。界面介电层形成于金属导电层上，富硅介电层形成于界面介电层上，而透明导电层则是形成于富硅介电层上。本发明可以改善其中光电流与光线照度无法呈现线性关系的问题，以增进光感测元件的品质。

主权项

一种光感测元件，包含：一金属导电层，该金属导电层包含钛‑铝‑钛金属；一界面介电层，形成于该金属导电层上，该界面介电层的材料选自金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物及其组合所组成的群组，该界面介电层的厚度为10至300埃，其中该界面介电层包含对该金属导电层进行一等离子体表面改质处理工艺而形成；一富硅介电层，形成于该界面介电层上，用于感测光线而产生光电流，该富硅介电层的材料选自富硅氧化硅、富硅氮化硅、富硅氮氧化硅及其组合所组成的群组，或者选自氢化富硅氧化硅、氢化富硅氮化硅、氢化富硅氮氧化硅及其组合所组成的群组；以及一透明导电层，形成于该富硅介电层上。