[发明专利]带透明导电性氧化物膜的基体无效
申请号: | 201310062428.4 | 申请日: | 2013-02-27 |
公开(公告)号: | CN103296101A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 东诚二;增茂邦雄 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/0392 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及带透明导电性氧化物膜的基体,其特征在于,依次层叠有透明基体、该基体上的第一膜、和第二膜,第二膜与第一膜相接触、膜厚为10~100nm,第一膜为透明导电性的以氧化锡为主成分的氧化物膜,至少第一膜的与第二膜相接触的表面部分为氟与锡的摩尔比为0.0001~0.09的氟掺杂氧化锡,第二膜为透明导电性的包含氧化钛和氧化锡的氧化物膜,在从第二膜的表面到与第一膜相接触的面的膜厚方向上锡与锡和钛总量的摩尔比是变化的,以从第二膜的表面起沿膜厚方向到5nm为止的深度范围的该摩尔比最大的值为表面值、以第二膜的膜厚方向上的总膜厚内的该摩尔比最小的值为最小值时表面值为0.45以上且为最小值的1.2倍以上。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 氧化物 基体 | ||
【主权项】:
一种带膜的基体,其特征在于,其为依次层叠有透明基体、所述基体上的第一膜、和第二膜的带膜的基体,所述第二膜与所述第一膜相接触、膜厚为10~100nm,所述第一膜为透明且具有导电性的、以氧化锡为主成分的氧化物膜,至少第一膜的与所述第二膜相接触的表面部分为氟(F)相对于锡(Sn)的摩尔比F/Sn为0.0001~0.09的氟掺杂氧化锡,所述第二膜为透明且具有导电性的、包含氧化钛和氧化锡的氧化物膜,在从所述第二膜的表面起到与所述第一膜相接触的面为止的膜厚方向上,锡(Sn)相对于锡(Sn)与钛(Ti)的总量的摩尔比Sn/(Sn+Ti)是变化的,将从所述第二膜的表面起沿膜厚方向到5nm为止的深度范围的摩尔比Sn/(Sn+Ti)最大的值作为表面值、将所述第二膜的膜厚方向上的总膜厚内的摩尔比Sn/(Sn+Ti)最小的值作为最小值时,所述表面值为0.45以上、且为所述最小值的1.2倍以上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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