[发明专利]分析样品的制备方法无效
申请号: | 201310062496.0 | 申请日: | 2013-02-27 |
公开(公告)号: | CN103196713A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 陈强 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种分析样品的制备方法,包括:步骤一:提供一样品衬底,所述样品衬底上包括目标观察区域,所述目标观察区域内至少有一个目标沟槽或通孔;以及步骤二:采用FIB,在所述目标沟槽或通孔内沉积填充物。采用上述分析样品的制备方法所制备的分析样品,因为目标沟槽或通孔内被填充物填满,因此在后续在沉积金属保护层上时,因此不会在目标沟槽或通孔内形成空洞,从根本上避免了由于空洞造成的切割拉痕,也避免了金属保护层厚度不足而产生的离子损伤,从而有效提高了分析样品的SEM/TEM分析质量。 | ||
搜索关键词: | 分析 样品 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种分析样品的制备方法,包括:步骤一:提供一样品衬底,所述样品衬底上包括目标观察区域,所述目标观察区域内至少有一个目标沟槽或通孔;以及步骤二:采用FIB在所述目标沟槽或通孔内沉积填充物。
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