[发明专利]一种利用银镜反应制备硅表面形貌可控纳米银粒子的方法有效
申请号: | 201310064543.5 | 申请日: | 2013-02-28 |
公开(公告)号: | CN103103511A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 姜冰;李美成;白帆;余航 | 申请(专利权)人: | 华北电力大学 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44;C23F1/24;C23F1/02;H01L31/18 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 薄观玖 |
地址: | 102206 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于太阳能电池纳米结构技术领域,特别涉及一种利用银镜反应制备硅表面形貌可控纳米银粒子的方法。本发明采用不同温度下的、无添加剂的银镜反应在(100)硅片表面制备了尺寸、形状、均匀性可控的纳米银粒子,采用不同形貌的纳米银粒子催化刻蚀,获得了不同形貌的硅表面纳米结构。本发明在保持催化刻蚀特征的基础上,通过银镜反应简化了纳米银粒子镀覆的工艺过程,制备出长米状、短棒状、多面体状银粒子以及絮状银,为硅表面催化银粒子的形貌可控制备工艺提供了新的方法。纳米银粒子可直接应用于催化刻蚀工艺,制备出圆孔、密集小孔、凹凸孔和方孔硅表面纳米结构,实现了太阳能电池中纳米陷光结构的可控制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 银镜 反应 制备 表面 形貌 可控 纳米 粒子 方法 | ||
【主权项】:
一种利用银镜反应制备硅表面形貌可控纳米银粒子的方法,其特征在于,采用无任何添加剂和控制形状晶种的银镜反应,通过控制反应溶液浓度和反应温度直接在硅表面制备纳米银粒子,实现其形貌可控,并利用催化刻蚀工艺实现硅表面不同纳米结构的制备,具体步骤如下:a. 清洗硅片:将硅片依次用丙酮超声清洗、去离子水冲洗、CP‑4A溶液清洗、去离子水冲洗、质量分数为40%的氢氟酸溶液浸泡处理,去离子水冲洗,最后得到清洁的硅表面;所述CP‑4A溶液为HF、HNO3、CH3COOH和H2O按体积比3:5:3:22配置的溶液;b.配置银氨溶液:在浓度为0.002~0.1 mol/L的硝酸银溶液中,逐渐滴加浓度为0.3 mol/L的氨水,并不断搅拌,直至所产生的浑浊溶液逐渐变为澄清;c. 在银氨溶液中滴加浓度为0.005~0.01 mol/L的葡萄糖溶液,同时放入清洗后的硅片,反应时间为5min; d. 反应温度的控制:将银氨溶液分别置于4 ℃、25 ℃和60 ℃的条件下,采用冰浴和水浴控制温度,可分别获得长米状、短棒状、多面体状的银粒子以及絮状银;e.采用纳米银粒子催化刻蚀:把带有不同形貌纳米银粒子的硅片在刻蚀液中浸泡3 min,其中刻蚀液采用质量分数为40%氢氟酸,质量分数为30%的过氧化氢和去离子水配置,三种溶液的体积比为 1:5:2;f.刻蚀完成后的样品用去离子水冲洗,可获得圆孔、密集小孔、凹凸孔和方孔硅纳米结构。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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