[发明专利]液态金属钠连续喷射的方法及所用回路有效
| 申请号： | 201310069422.X | 申请日： | 2013-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN104036839A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 杜海鸥;王荣东;王景春;王国芝;刘晨;卢晓春;石文涛 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | G21F9/06 | 分类号： | G21F9/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102413 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于快堆冷却剂特性技术领域，公开了液态金属钠连续喷射的方法及所用回路，该方法是将钠加热后使钠经过沉降、冷阱除杂后，在喷射支路中的钠喷射接收罐中实现连续喷射；该回路包括钠回路、阻塞计测量旁路、喷射支路。该方法及回路能够在线监测钠中杂质含量，使液态金属钠连续喷射、不堵塞喷射装置。 | ||
| 搜索关键词： | 液态 金属钠 连续 喷射 方法 所用 回路 | ||
【主权项】：
液态金属钠连续喷射的方法，该方法是将钠加热后使钠经过沉降、冷阱除杂后，在喷射支路中的钠喷射接收罐中实现连续喷射，其包括以下步骤：（1）除杂将钠加热到150℃～250℃后输送到沉降罐中初步沉降，将沉降后的钠输送到膨胀箱中，并通过电磁泵使钠在冷阱、膨胀箱中循环流动，钠通过冷阱时进一步将杂质除去；（2）测量通过阻塞计测量旁路对净化后的钠进行在线测量，当杂质含量小于50ppm，将钠输送至喷射支路；（3）钠的喷射小流量喷射时，将钠先注入到钠计量筒，再将其注入喷射支路；大流量喷射时，将膨胀箱中钠通过电磁泵驱动输送到喷射支路的钠喷射接收罐，实现钠的连续雾化喷射。
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