[发明专利]曝光装置及其曝光方法有效
申请号: | 201310069610.2 | 申请日: | 2013-03-05 |
公开(公告)号: | CN104035285A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 伍强;祖延雷;胡华勇;顾一鸣 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种曝光装置及其曝光方法,所述曝光装置,包括:基台;晶圆载物台组,所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,进行晶圆的对准;掩膜板载物台,用于装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转;光学投影单元,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时,晶圆载物台不需要改变扫描方向,从而节省了曝光时间,提高了曝光效率。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,其特征在于,包括:基台;晶圆载物台组,用于装载晶圆,位于基台上,所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,位于基台的第一位置上方,用于检测位于第一位置的晶圆载物台上的基准标记,以及该晶圆载物台上的晶圆上的对准标记,进行晶圆的对准;掩膜板载物台,位于基台的第二位置上方,用于装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转;光学投影单元,位于掩膜板载物台和基台之间,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;其中,当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。
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