[发明专利]曝光装置及其曝光方法有效

专利信息
申请号: 201310069610.2 申请日: 2013-03-05
公开(公告)号: CN104035285A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 伍强;祖延雷;胡华勇;顾一鸣 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种曝光装置及其曝光方法,所述曝光装置,包括:基台;晶圆载物台组,所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,进行晶圆的对准;掩膜板载物台,用于装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转;光学投影单元,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时,晶圆载物台不需要改变扫描方向,从而节省了曝光时间,提高了曝光效率。
搜索关键词: 曝光 装置 及其 方法
【主权项】:
一种曝光装置,其特征在于,包括:基台;晶圆载物台组,用于装载晶圆,位于基台上,所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,位于基台的第一位置上方,用于检测位于第一位置的晶圆载物台上的基准标记,以及该晶圆载物台上的晶圆上的对准标记,进行晶圆的对准;掩膜板载物台,位于基台的第二位置上方,用于装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转;光学投影单元,位于掩膜板载物台和基台之间,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;其中,当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310069610.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top