[发明专利]确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统有效
| 申请号： | 201310072068.6 | 申请日： | 2013-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN103158057A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 何敖东;宋志棠;刘波;刘卫丽;吴关平;王良咏;李俊焘;俞磊;闫未霞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统。根据本发明的方法，基于来自正在化学机械抛光的材料结构表面的反射光的强度来确定化学机械抛光停止点，如此可有效去除纳米孔或纳米沟槽外的相变材料，减少表层的损伤，提高器件的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 相变 材料 化学 机械抛光 停止 方法 检测 系统 | ||
【主权项】：
一种确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法，其特征在于，所述确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法至少包括步骤：1）基于来自正在化学机械抛光的材料结构表面的反射光的强度来确定化学机械抛光停止点。
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