[发明专利]一种光刻胶用光敏性寡聚物、其制备方法及负性光刻胶组合物有效
| 申请号： | 201310072295.9 | 申请日： | 2013-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN103130955A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 孙雯雯;张卓 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F222/02 | 分类号： | C08F222/02;C08F220/06;C08F220/14;C08F8/42;C08F212/08;C07F7/18;G03F7/038;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张庆敏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶用光敏性寡聚物，所述光敏性寡聚物含有不饱和双键基团和柔性基团，合成所述光敏性寡聚物的单体或化合物为含有不饱和双键的有机酸类单体、含有不饱和双键的有机酯类单体、含有不饱和双键的有机酰氯类单体/乙烯类单体、含有不饱和双键的醇类化合物和含有柔性基团的硅烷类/醚类化合物。本发明还提供一种含有光敏性寡聚物的负性光刻胶树脂组合物。本发明含有所述光敏性寡聚物的负性光刻胶树脂组合物制成光刻胶涂布液，涂布在透明基板上，形成规定图案及膜厚，干燥后，利用紫外曝光及掩膜装置进行曝光，并利用碱溶性溶液进行显影，获得的显像图案边界整齐、表面平整。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 用光 敏性寡聚物 制备 方法 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻胶用光敏性寡聚物，其特征在于，所述光敏性寡聚物含有不饱和双键基团和柔性基团，合成所述光敏性寡聚物的单体或化合物为含有不饱和双键的有机酸类单体、含有不饱和双键的有机酯类单体、含有不饱和双键的有机酰氯类单体/乙烯类单体、含有不饱和双键的醇类化合物和含有柔性基团的硅烷类/醚类化合物。
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