[发明专利]彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示装置无效
| 申请号： | 201310076478.8 | 申请日： | 2013-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN103149731A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 齐永莲;舒适;惠官宝 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗建民;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形的步骤，且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，在形成彩色滤光层图形之前，所述制作方法还包括：在衬底基板上形成多个凹槽的步骤，亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。相应地，提供一种采用所述制作方法制成的彩膜基板以及包括所述彩膜基板的显示装置。本发明所述彩膜基板的制作方法既能达到色彩协调的效果，又能减少工艺次数和减小平坦保护层厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形的步骤，且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区，所述彩色滤光层覆盖在所述多个亚像素区上，所述亚像素区包括透射区和/或反射区，其特征在于，在形成彩色滤光层图形之前，所述制作方法还包括：在衬底基板上形成多个凹槽的步骤，且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310076478.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种多工位钻削主轴装置
- 下一篇：新型车床定心夹具
