[发明专利]放射性同位素操作装置用盒、操作装置及操作系统有效

专利信息
申请号: 201310079229.4 申请日: 2013-03-12
公开(公告)号: CN103301484A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 加藤润;岩田知也;小田敬 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: A61K51/12 分类号: A61K51/12
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 温旭;郝传鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种放射性同位素操作装置用盒、放射性同位素操作装置及放射性同位素操作系统。本发明的目的在于提供一种能够利用1个基板合成多种药剂的放射性药剂合成装置用盒、放射性药剂合成装置及放射性药剂合成装置用基板。其中,拆卸模块(2)具备:板体(22),其具备能够安装配管(21)的多个支柱部(F);及配管(21),其通过多个支柱部中的一部分安装于板体上。另外,板体(22)上设置有用于开闭配管(21)的多个贯穿孔(H),贯穿孔(H)的每一个对应设置有至少2个支柱部(F)。并且,多个支柱部(F)包括:多个第1支柱部(Fv),其能够沿第1方向安装配管;及多个第2支柱部(Fh),其能够沿与第1方向交叉的第2方向安装配管。
搜索关键词: 放射性同位素 操作 装置 操作系统
【主权项】:
一种放射性同位素操作装置用盒,其中,具备:基板,其具备能够安装配管的多个保持机构;及配管,其通过所述多个保持机构中的一部分安装于所述基板上,所述基板上设置有用于开闭所述配管的多个贯穿孔,所述多个保持机构包括:多个第1保持机构,其能够沿第1方向安装所述配管;及多个第2保持机构,其能够沿与所述第1方向交叉的第2方向安装所述配管。
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