[发明专利]利用相变材料进行图案化的方法有效
申请号: | 201310079615.3 | 申请日: | 2013-03-13 |
公开(公告)号: | CN103303010A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | S.林布;U.斯里尼瓦桑 | 申请(专利权)人: | 帕洛阿尔托研究中心公司 |
主分类号: | B41M1/06 | 分类号: | B41M1/06;B41M1/26;B41M5/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 杜娟娟;王忠忠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明为利用相变材料进行图案化的方法。通过沉积印刷图案化掩膜结构在晶圆之上产生图案化层。被赋予能量的目标材料颗粒被沉积在晶圆和印刷图案化掩膜之上,使得投射在掩膜结构上的所述目标材料颗粒进入掩膜结构本体并且最小程度地聚集在掩膜结构的表面上(如果聚集的话),并且另外地,目标材料的颗粒作为基本统一的层聚集在晶圆之上。其中包括目标材料颗粒的印刷图案化掩膜结构被去除,留下基本统一的目标材料层作为晶圆之上的图案化层。 | ||
搜索关键词: | 利用 相变 材料 进行 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种在基板之上产生图案化的目标材料层的方法,包括以下步骤:在所述基板之上形成印刷图案化掩膜结构,使得所述掩膜结构的第一表面朝向所述基板定向并且所述掩膜结构的第二表面背离所述基板定向;利用充分的能量将所述目标材料的颗粒导向所述基板和所述掩膜结构,使得: 所述颗粒在所述第二表面处进入所述掩膜结构; 所述目标材料基本上不聚集在所述第二表面上; 所述目标材料作为目标材料层聚集在所述基板之上而不是聚集在所述掩膜结构之上;以及连同所述掩膜结构中的目标材料颗粒一起去除所述掩膜结构,使得所述基板之上而不是所述掩膜结构之上的所述目标材料层作为图案化层而保留。
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