[发明专利]利用相变材料进行图案化的方法有效

专利信息
申请号: 201310079615.3 申请日: 2013-03-13
公开(公告)号: CN103303010A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: S.林布;U.斯里尼瓦桑 申请(专利权)人: 帕洛阿尔托研究中心公司
主分类号: B41M1/06 分类号: B41M1/06;B41M1/26;B41M5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 杜娟娟;王忠忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明为利用相变材料进行图案化的方法。通过沉积印刷图案化掩膜结构在晶圆之上产生图案化层。被赋予能量的目标材料颗粒被沉积在晶圆和印刷图案化掩膜之上,使得投射在掩膜结构上的所述目标材料颗粒进入掩膜结构本体并且最小程度地聚集在掩膜结构的表面上(如果聚集的话),并且另外地,目标材料的颗粒作为基本统一的层聚集在晶圆之上。其中包括目标材料颗粒的印刷图案化掩膜结构被去除,留下基本统一的目标材料层作为晶圆之上的图案化层。
搜索关键词: 利用 相变 材料 进行 图案 方法
【主权项】:
一种在基板之上产生图案化的目标材料层的方法,包括以下步骤:在所述基板之上形成印刷图案化掩膜结构,使得所述掩膜结构的第一表面朝向所述基板定向并且所述掩膜结构的第二表面背离所述基板定向;利用充分的能量将所述目标材料的颗粒导向所述基板和所述掩膜结构,使得:    所述颗粒在所述第二表面处进入所述掩膜结构;    所述目标材料基本上不聚集在所述第二表面上;    所述目标材料作为目标材料层聚集在所述基板之上而不是聚集在所述掩膜结构之上;以及连同所述掩膜结构中的目标材料颗粒一起去除所述掩膜结构,使得所述基板之上而不是所述掩膜结构之上的所述目标材料层作为图案化层而保留。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于帕洛阿尔托研究中心公司,未经帕洛阿尔托研究中心公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310079615.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top