[发明专利]一种N型磷化铟单晶生长制备配方有效
申请号: | 201310079859.1 | 申请日: | 2013-03-12 |
公开(公告)号: | CN104047055B | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 关活明 | 申请(专利权)人: | 台山市华兴光电科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/40 | 分类号: | C30B29/40 |
代理公司: | 广州科粤专利商标代理有限公司 44001 | 代理人: | 蒋欢妹;莫瑶江 |
地址: | 529341 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种N型磷化铟单晶生长制备配方,该配方按原料重量百分比组成为:InP多晶料96.50~97.50%,三氧化二硼1.40~2.00%,红磷1.00~1.50%,硫0.01~0.02%。本发明可以获得高质量、大直径InP单晶,且生产效率高,降低消耗、提高劳动生产率,制备出来的<100>InP单晶和单晶片经过测试其平均EPD小于5.0×104cm‑2,载流子浓度小于3.8×1018cm‑3。 | ||
搜索关键词: | 一种 磷化 铟单晶 生长 制备 配方 | ||
【主权项】:
1.一种N型磷化铟单晶生长制备配方,其特征在于按原料重量百分比组成为:InP多晶料96.50~97.50%,三氧化二硼1.40~2.00%,红磷1.00~1.50%,硫0.01~0.02%,所述InP多晶料经去离子水多次煮沸清洗,以去除表面的氧化物和残余杂质,所述三氧化二硼为高纯脱水三氧化二硼,脱水后的三氧化二硼含水量一般在500ppm量级,所述红磷达到6N纯净度,所述硫达到6N纯净度。
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