[发明专利]火棉胶薄膜的图形化方法有效
| 申请号： | 201310080874.8 | 申请日： | 2013-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN103193200A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 蔡长龙;刘卫国;牛晓玲;韩雄;刘欢;周顺;秦文罡 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | B81C99/00 | 分类号： | B81C99/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种镀制在衬底上的火棉胶薄膜的图形化方法。该方法包括如下步骤：利用薄膜沉积方法在火棉胶薄膜上沉积一种容易腐蚀的掩模层；利用微加工技术中的光刻、显影、腐蚀等方法把该掩模层进行处理，获得所需要火棉胶薄膜图形的掩模层图形；利用丙酮去除暴露出来的火棉胶薄膜，再利用掩模层材料腐蚀液腐蚀掉表面的掩模层，最终获得火棉胶薄膜所需要的微小图形。该方法能够精细地制作出火棉胶薄膜的微纳图形，而且具有所用材料成本低，方法简单，操作方便等优点，解决了目前火棉胶薄膜的图形化难题。 | ||
| 搜索关键词： | 火棉胶 薄膜 图形 方法 | ||
【主权项】：
火棉胶薄膜的图形化方法，其特征在于：包括以下步骤： 1）在火棉胶薄膜上沉积一种容易腐蚀的掩模层； 2）采用光刻、显影的方法在掩模层上面制作所需图形的光刻胶图形； 3）采用化学溶液腐蚀的方法腐蚀掩模层，获得所需图形的掩模层图形； 4）利用丙酮腐蚀去除掩模层上面的光刻胶以及没有掩模层部分的火棉胶薄膜，再利用掩模层腐蚀液去除剩余的掩模层，获得火棉胶所需的图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安工业大学，未经西安工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310080874.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种自适应覆盖优化方法及装置
- 下一篇：基于集群网络的呼叫建立方法及系统
