[发明专利]一种真空腔体控制自动检测漏率的方法

摘要

本发明公开了一种真空腔体控制自动检测漏率的方法，属于真空腔体技术领域，应用于真空腔体检测系统上，该真空腔体检测系统包括真空腔体、泵体和计数器；真空腔体与计数器连接，计数器连接外部的工作系统；真空腔体还通过一个阀门与泵体连接；泵体通过阀门与计时器连接；方法包括：在真空腔体上沉积衬底；将衬底移除；比较沉积衬底计数和自清计数；若一致，则继续比较沉积衬底计数和漏率检测计数；若一致，则对真空腔体进行漏率检测；对真空腔体进行自清；将沉积的衬底与真空腔体脱离；上述技术方案的有益效果是：简化了对真空腔体检测漏率的后续制程，弥补了现有技术中后续制程气体浪费、产能和良率下降的缺陷。

主权项

一种真空腔体控制自动检测漏率的方法，应用于一个真空腔体检测系统上，其特征在于，所述真空腔体检测系统包括真空腔体、泵体和计数器；所述真空腔体与所述计数器连接，所述计数器连接外部的工作系统；所述真空腔体还通过一个阀门与所述泵体连接；所述泵体通过所述阀门与所述计时器连接；所述计数器包括清洗校正计数部件和漏率校正计数部件，所述清洗校正计数部件和所述漏率校正计数部件相互独立且相互连接；所述清洗校正计数部件还分别连接所述真空腔体和外部的工作系统，并通过所述阀门连接所述泵体；所述清洗校正计数部件用于计算对所述真空腔体进行自清的次数，作为自清计数；所述漏率校正计数部件用于计算对所述真空腔体进行漏率检测的次数，作为漏率检测计数；所述真空腔体内包括一个处理部件，所述处理部件计算对所述真空腔体沉积衬底的次数，作为沉积衬底计数；所述真空腔体控制自动检测漏率的方法具体包括：在所述真空腔体上沉积衬底；将所述衬底从所述真空腔体上移除；比较所述沉积衬底计数和所述自清计数是否一致；若所述沉积衬底计数与所述自清计数一致，则继续比较所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数是否一致；若所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数一致，则对所述真空腔体进行漏率检测；对所述真空腔体进行自清；将沉积的所述衬底与所述真空腔体脱离。