[发明专利]一种涂布方法有效
申请号: | 201310084137.5 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN103172271A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 王耸;万冀豫;姜晶晶;张思凯;查长军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种涂布方法,属于液晶显示装置制造技术领域,其可解决现有的涂布方法会造成机台吸附孔处涂布不均匀的问题。本发明的涂布方法,包括依次对基板的不同区域进行涂布,其中至少对基板正在进行涂布的区域进行真空吸附,所述涂布方法还包括:在涂布过程中,将基板上至少部分已经完成涂布的区域解除真空吸附状态。本发明可以减小最早进行涂布的部分由于真空吸附时间长,吸附孔处涂布不均匀严重的情况,减少设备影响因素,同时降低对涂布材料表面张力等特性要求,降低材料开发成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 方法 | ||
【主权项】:
一种涂布方法,包括依次对基板的不同区域进行涂布,其中至少对基板正在进行涂布的区域进行真空吸附,其特征在于,所述涂布方法还包括:在涂布过程中,将基板上至少部分已经完成涂布的区域解除真空吸附状态。
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