[发明专利]一种基于微纳米尺度使材料具有两种不同浸润性的方法有效

专利信息
申请号: 201310084326.2 申请日: 2013-03-15
公开(公告)号: CN103213940A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 王波;裴明德;严辉;刘晶冰;王如志;侯育冬;朱满康;张铭;宋雪梅;汪浩 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张慧
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于微纳米尺度使材料具有两种不同浸润性的方法,属于微纳薄膜技术领域。对基体进行清洗,并涂上光刻胶,制备微纳结构,进行真空镀膜,镀膜厚度几十纳米到几微米,镀膜后用丙酮清洗掉光刻胶,然后将其浸泡在全氟三乙氧基甲硅烷酒精溶液中,使得全氟三乙氧基甲硅烷进入原光刻胶的所在微纳结构中,拿出后用酒精清洗;用化学方法去除掉表面镀的镀膜,即在基体上得到微纳尺寸两种不同浸润性的表面。本发明可以通过微纳结构的尺寸和面积比例来调节宏观表面的浸润性。
搜索关键词: 一种 基于 纳米 尺度 材料 具有 不同 浸润 方法
【主权项】:
一种基于微纳米尺度使材料具有两种不同浸润性的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)纯基体分别用甲苯、丙酮、乙醇进行超声,用去粒子水冲洗干净;(2)在基体上均匀涂一层光刻胶,经过烘烤、曝光,显影得到微纳结构的表面形貌;(3)对步骤(2)得到的基体进行真空镀膜,镀膜厚度几十纳米到几微米,镀膜后用丙酮清洗掉光刻胶,然后将其浸泡在全氟三乙氧基甲硅烷酒精溶液中,使得全氟三乙氧基甲硅烷进入原光刻胶的所在微纳结构中,拿出后用酒精清洗;(4)用化学方法去除掉步骤(3)表面镀的镀膜,即在基体上得到微纳尺寸两种不同浸润性的表面。
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