[发明专利]一种掩膜台垂直运动分量的测量装置与方法

摘要

一种掩膜台垂直运动分量的测量装置与方法属于半导体制造装备技术领域，主要涉及一种掩膜台垂直运动分量的测量方法与装置；该装置将掩膜台配置在水平运动导轨上，并且在掩膜台的上方配置四个激光三角位移传感器；该方法通过四个激光三角位移传感器的位置坐标构成测量变换阵，利用该变换阵求解掩模台垂直运动分量；由于该装置采用了激光三角位移传感器，充分发挥了其测量位移的优势，因此装置结构简单，可根据被测面不同的表面特性选择不同类型的传感器，无需对被测表面进行镀膜等处理；该方法使用四组独立的位移信息，经过测量模型解算，能够精确地得到掩膜台的垂直运动分量，测量精度高、测量范围大、直观、易于实现。

主权项

一种掩膜台垂直运动分量的测量装置，其特征在于：包括水平运动导轨（107），配置在水平运动导轨（107）上方，且能够沿水平运动导轨（107）方向运动的掩膜台（106），在掩膜台（106）上方配置有测量框架（105），测量框架（105）上固定安装有第一激光三角位移传感器（101）、第二激光三角位移传感器（102）、第三激光三角位移传感器（103）和第四激光三角位移传感器（104），其中，第一激光三角位移传感器（101）与第四激光三角位移传感器（104）的连线与水平运动导轨（107）方向垂直，第一激光三角位移传感器（101）与第二激光三角位移传感器（102）的连线与水平运动导轨（107）方向平行；第三激光三角位移传感器（103）与第四激光三角位移传感器（104）的连线与水平运动导轨（107）方向平行；第二激光三角位移传感器（102）与第三激光三角位移传感器（103）位于第一激光三角位移传感器（101）与第四激光三角位移传感器（104）连线的两端；所述的测量框架（105）相对于水平运动导轨（107）静止；掩膜台（106）位于水平运动导轨（107）中间位置时，第一激光三角位移传感器（101）、第二激光三角位移传感器（102）、第三激光三角位移传感器（103）和第四激光三角位移传感器（104）的测量光斑均能照射到掩膜台（106）上，掩膜台（106）在水平运动导轨（107）上运动时，掩膜台（106）的边缘不越过第一激光三角位移传感器（101）与第四激光三角位移传感器（104）的连线。