[发明专利]化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201310085126.9 | 申请日： | 2013-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN103213062A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 邓镭 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械研磨设备，包括：研磨台，具有研磨表面和与研磨表面相对的研磨底面，所述研磨表面方向与水平方向一致，研磨垫，贴合于研磨表面的上方，所述研磨台和研磨垫能够绕转轴在水平方向进行转动，自所述研磨表面向外至研磨表面的边缘，所述研磨表面与所述研磨底面的距离增大。本发明解决的问题提供了一种化学机械研磨设备，提高了研磨液利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 设备 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨设备，包括：研磨台，具有研磨表面和与研磨表面相对的研磨底面，所述研磨表面方向与水平方向一致，研磨垫，贴合于研磨表面上方，所述研磨台和研磨垫能够绕转轴在水平方向进行转动，其特征在于，自所述研磨表面向外至研磨表面的边缘，所述研磨表面与所述研磨底面的距离增大。
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