[发明专利]一种盐酸柔红霉素菌种及其高产方法无效
申请号: | 201310086639.1 | 申请日: | 2013-03-18 |
公开(公告)号: | CN104059871A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 余宏;徐超波;陈欢斌;王波;姚定余 | 申请(专利权)人: | 江苏禾昌生物科技有限公司 |
主分类号: | C12N1/21 | 分类号: | C12N1/21;C12N15/01;C12N13/00;C12N15/03;C12R1/465;C12R1/545 |
代理公司: | 北京市振邦律师事务所 11389 | 代理人: | 李朝辉 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种盐酸柔红霉素菌种及其高产方法,包括步骤:Q1:原生质体的制备;Q2:原生质体的再生;Q3:原生质体的紫外诱变;Q4:将制备好的原生质体悬液按照下列步骤进行离子注入诱变处理;Q5:分别以Q3步骤处理完成和Q4步骤处理培养长出的菌落作为具有不同遗传背景的亲本,进行基因组改组处理;Q6:杂合再生子代菌丝体的培养;Q7:杂合子代原生质体制备及原生质体融合;Q8:子代原生质体多轮融合与再生:按照上述Q1-Q7进行后继子代的多轮反复融合与再生,筛选得到了柔红霉素产量得到大幅提高的突变株。 | ||
搜索关键词: | 一种 盐酸 红霉素 菌种 及其 高产 方法 | ||
【主权项】:
一种盐酸柔红霉素菌种的高产方法,其特征在于,包括以下步骤:Q1:原生质体的制备,包括以下分步骤:Q11:取培养菌丝体,以5000‑7000转/分钟的速率,离心5‑8分钟后得沉淀,加生理盐水进行洗涤,再次离心后弃澄清部分,并以漩涡振荡的方式分散菌丝体;Q12:在Q11步骤中处理后的悬浮菌丝体中加入生理盐水,再加入溶菌酶溶液,用移液枪吹吸5次混匀后,于30°水浴中进行酶解,每隔10分钟,用移液器吹吸3次,90分钟后终止酶解;Q13:以2000转/分钟的速率,离心5分钟上述Q12步骤结束后的处理液,使残留的菌丝断片沉于管底,取上部澄清部分,即为原生质体悬浮液,转移到另一灭菌离心管中备用,并以3000转/分钟的速率,离心10分钟该原生质体悬浮液,温和地去除溶菌酶液,沉淀出原生质体;Q14:取Q13步骤中沉淀出原生质体部分,轻轻震荡离心管,使原生质体分散开成原生质体悬浮液,加生理盐水进行稀释并对原生质体计数,使原生质体的浓度为100个/毫升;Q2:原生质体的再生,包括以下分步骤:Q21:取0.5ml‑1ml Q14步骤中得到的原生质体悬液,与25ml‑50ml软琼脂混合均匀,倾倒于R2YE平板上层的培养基中;Q22:另取一R2YE平板,盖住Q21步骤中的R2YE平板,将双层培养基平板于28°倒置培养;Q3:原生质体的紫外诱变,包括以下分步骤:Q31:将按照Q14步骤制备好、稀释好浓度的原生质体悬液进行紫外诱变:Q311:紫外线照射强度为10‑25W,200‑350nm,光源距离保持30cm不变,一次性持续紫外照射时间分别为30秒、1分钟、2分钟、3分钟、4分钟、5分钟、6分钟;Q312:保持紫外线照射强度15W,254nm,照射距离分别设置为10cm、20cm、30cm、40cm、50cm,每个距离的照射时间均为3分钟;Q32:完成后,按照Q2步骤,28°的培养环境下,避光培养5天‑10天时间;Q4:离子注入诱变处理:将按照Q14步骤制备好的原生质体悬液按照下列步骤进行离子注入诱变处理:Q41:将孢子悬浮液均匀涂布于玻璃片上,自然风干表面水分;Q42:以N+作为辐射致变剂,辐射室的真空度:10‑3Pa,离子能量:65kev,辐射处理的剂量率1015N+/秒,总辐射剂量为1*1015N+/cm2;Q43:处理后,用生理盐水将玻璃片上的孢子洗脱,对洗脱的孢子液进行梯度稀释,分别取稀释10倍‑50倍数的孢子液均匀地涂布在高氏一号培养基筛选平皿上,30℃培养10天;Q5:分别以Q3步骤处理完成和Q4步骤处理培养长出的菌落作为具有不同遗传背景的亲本,进行下列基因组改组处理:Q51:分别对上述不同遗传背景的亲本进行原生质体制备,即重复步骤1的方法步骤,然后将处理后的两部分原生质体混合;Q52:以3000转/分钟的速率,在离心机中,离心上述混合液10分钟,弃上部澄清液;Q53:将上一步骤得到的沉淀中加入生理盐水,静置产生分层后得到的沉淀物质,再次以3000转/分钟的速率,离心10分钟,弃去上部澄清液;Q54:于得到的沉淀中缓慢加入500μml溶解在生理盐水中的、浓度为65%的PEG溶液,室温静置1分钟;Q55:加入500μml生理盐水,并以3000转/分钟的速率,离心10分钟,弃去上部澄清液;Q56:重复一次Q55;Q57:将上一步骤得到的沉淀中加入生理盐水,再与4毫升软琼脂混合,迅速倾倒于R2YE平板上,在28°中进行培养;Q6:杂合再生子代菌丝体的培养:将Q5步骤中于R2YE培养基中长出的菌落,用接种铲刮下,接种于YEME培养基中,28°的培养环境中培养三天,再按10%的接种量接种于含0.5%甘氨酸的YEME培养基中,继续在28°的培养环境中培养24小时;Q7:杂合子代原生质体制备及原生质体融合:Q71:将步骤Q6完成的杂合子代菌丝体,重复一遍步骤Q1,完成制备新的原生质体;Q72:按步骤Q57的方法进行原生质体融合,即在上述原生质体沉淀中加入PEG溶液,进行原生质体融合,并与软琼脂混合,倾注于R2YE平板上,在28°的培养环境中长出的菌落即为第二轮融合后的再生群体;Q8:子代原生质体多轮融合与再生:按照上述Q1‑Q7进行后继子代的多轮反复融合与再生。
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