[发明专利]彩色微透镜阵列及其制备方法有效
申请号: | 201310092084.1 | 申请日: | 2013-03-21 |
公开(公告)号: | CN103163575A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 金建;邸思;姚豫培;陈贤帅;杜如虚 | 申请(专利权)人: | 广州中国科学院先进技术研究所 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G03F7/00 |
代理公司: | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 刘新年 |
地址: | 511458 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩色微透镜阵列及其制备方法,属于光学领域。包括提供基底;通过热熔工艺在基底上制备微透镜阵列母版;将聚二甲基硅氧烷黏稠液覆盖在所述母版上,制得带有凹形微透镜阵列的聚二甲基硅氧烷软印章;将聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列结构复制在另一基底的颜色光阻剂上,制得微透镜阵列;重复上述步骤,利用不同的颜色光阻剂,制备不同颜色的微透镜阵列。本发明通过聚二甲基硅氧烷和颜色光阻剂,比传统多谱成像系统减少一个滤光片结构,减少光能损失,提高成像质量,避免了滤光片与微透镜阵列对准集成的问题;通过将几种不同颜色的微透镜阵列集成,应用于多谱成像系统中实现单色成像和彩色重构,大大降低系统复杂度和成本。 | ||
搜索关键词: | 彩色 透镜 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种彩色微透镜阵列制备方法,其特征在于,所述方法至少包括:提供基底;通过热熔工艺在基底上制备微透镜阵列母版;将聚二甲基硅氧烷黏稠液覆盖在所述母版上,制得带有凹形微透镜阵列的聚二甲基硅氧烷软印章;将聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列结构复制在另一基底的颜色光阻剂上,制得微透镜阵列;重复上述步骤,利用不同的颜色光阻剂,可以制备不同颜色的微透镜阵列。
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