[发明专利]遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法有效
| 申请号： | 201310092395.8 | 申请日： | 2013-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN103365079B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 中绪卓;盐田大;石川达郎 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 龚敏 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法以及不产生针孔等的、高品质的黑矩阵。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，使感光性基材成分(A)溶解于有机溶剂成分(S)中，用孔径为1μm以下的PTFE膜对所得的基材溶液进行过滤后，使颜料成分(G)分散于该基材溶液中。其中，上述感光性基材成分(A)含有碱可溶性树脂(A1)、光聚合性化合物(A2)、或光聚合引发剂(A3)。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光 形成 感光性 基材 组合 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，使感光性基材成分(A)溶解于有机溶剂成分(S)中，用孔径为1μm以下的PTFE膜对所得的基材溶液进行过滤后，使颜料成分(G)分散于该基材溶液中，其中，所述感光性基材成分(A)含有光聚合性化合物(A2)和光聚合引发剂(A3)，所述光聚合引发剂(A3)含有肟系光聚合引发剂。
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