[发明专利]涂布设备和喷墨记录设备无效
申请号: | 201310093007.8 | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN103317860A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 古川源太郎;上村宽 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B41J11/00 | 分类号: | B41J11/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 舒雄文;蹇炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种涂布设备,包括:涂布辊,配置为将涂布液体施加至待涂布的对象;供应辊,配置为将所述涂布液体供应至所述涂布辊,其中:所述供应辊具有的圆周表面的宽度比所述涂布辊的圆周表面的宽度大,所述供应辊的所述圆周表面具有配置为与所述涂布辊接触的接触区域和配置为不与所述涂布辊接触的非接触区域,所述接触区域具有的表面状态不同于所述非接触区域的表面状态,使得在所述非接触区域上流动的所述涂布液体的流动速率比在所述接触区域上流动的所述涂布液体的流动速率快;以及涂布液体供应装置,配置为将所述涂布液体供应至所述供应辊。 | ||
搜索关键词: | 布设 喷墨 记录 设备 | ||
【主权项】:
一种涂布设备,包括:涂布辊,其配置为将涂布液体施加至待涂布的对象;供应辊,其配置为邻接在所述涂布辊上,并将所述涂布液体供应至所述涂布辊,其中:所述供应辊具有的圆周表面的宽度比所述涂布辊的圆周表面的宽度大,所述供应辊的所述圆周表面具有配置为与所述涂布辊接触的接触区域和配置为不与所述涂布辊接触的非接触区域,所述非接触区域分别安置在所述供应辊的所述圆周表面的在所述供应辊的所述圆周表面的横向方向上的两个端部部分中,所述接触区域具有的表面状态不同于每一个所述非接触区域的表面状态,使得在每一个所述非接触区域上流动的所述涂布液体的流动速率比在所述接触区域上流动的所述涂布液体的流动速率快;以及涂布液体供应装置,其配置为将所述涂布液体供应至所述供应辊。
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