[发明专利]金属氧化层高温光学常数测量方法有效
| 申请号： | 201310095143.0 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN103163117A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 符泰然;宗安州;刘江帆;谈鹏;汤龙生;周金帅;邓兴凯 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01N21/71 | 分类号： | G01N21/71 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属氧化层高温光学常数测量方法，其包括以下步骤：S1、提供多份具有不同厚度金属氧化层的氧化金属样品，分别测量多份氧化金属样品的金属氧化层的厚度；S2、利用高温光谱发射率测量实验台，在真空环境下分别测量多份氧化金属样品的法向光谱发射率；S3、根据各氧化金属样品的法向发射率，建立光学常数数学模型，并以此计算出氧化金属样品的金属氧化层的光学常数。本发明通过采用高温光谱发射率测量实验台测量具有不同金属氧化层厚度的氧化金属样品的高温法向光谱发射率，可实现真空环境下的500℃以上高温氧化层光学常数测量，克服了传统测量技术易产生非真空环境下的样品氧化现象以及高温难于实现的技术局限性。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 氧化 高温 光学 常数 测量方法 | ||
【主权项】：
一种金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、提供多份具有不同厚度金属氧化层的氧化金属样品，分别测量多份氧化金属样品的金属氧化层的厚度；S2、利用高温光谱发射率测量实验台，在真空环境下分别测量每份氧化金属样品的法向光谱发射率；S3、根据各氧化金属样品的法向发射率，建立光学常数数学模型，并以此计算出氧化金属样品的金属氧化层的光学常数。
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