[发明专利]一种制备金属TiN陶瓷涂层的工艺方法有效
| 申请号： | 201310096474.6 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN103233219A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 潘太军;张保;李杰;汪涛 | 申请（专利权）人： | 常州大学 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10;C23C8/36 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213164 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明采用高能微弧合金化技术和辉光离子渗氮技术相结合的方法，在金属表面制备TiN涂层，首先通过高能微弧合金化技术在金属表面沉积一层纯Ti涂层，制备过程中选用一定规格的纯Ti作为沉积电极，通过控制制备过程中关键技术参数，可以实现纯钛层厚度可变；然后将沉积好的纯钛层通过辉光离子渗氮技术进行渗氮处理形成TiN层，处理过程中，炉体作为阳极，钛层作为阴极，通入氨气或者氢气与氮气的混合气体，辉光放电产生的氮离子、氮原子很容易被微晶化的Ti层吸附渗透，在微晶化的Ti层表面形成TiN涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 金属 tin 陶瓷 涂层 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种制备金属表面TiN涂层的方法，其特征在于：所述的方法为，首先通过高能微弧合金化技术在金属表面沉积一层纯Ti涂层，然后将沉积好的纯钛层，通过辉光离子渗氮技术进行渗氮处理，形成TiN层。
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