[发明专利]一种钠掺杂钼平面溅射靶材的制备方法有效
| 申请号： | 201310099385.7 | 申请日： | 2013-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN103160791A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 徐从康 | 申请（专利权）人： | 无锡舒玛天科新能源技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 214192 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种钠掺杂钼平面溅射靶材，由钼和钠构成，由钼和钠组成，其中钼原子数量为90-99%，其余为钠原子。还提供上述钠掺杂钼平面溅射靶材的制备方法。本发明提供的钠掺杂钼平面溅射靶材在钼背电极中掺杂了钠元素，能够大幅提高铜铟镓硒薄膜电池的转换效率，降低生产成本，使铜铟镓硒薄膜电池大规模工业化。该制备方法以三氧化钼、氢氧化钠和钼金属为原料，经过反应、球磨、过筛、热压等工艺制成钠掺杂钼平面溅射靶材，工艺简单、成本低廉，适于工业化生产，制得的靶材相对密度高可达到95%以上、氧密度高可达250ppm、尺寸小可达60-100微米。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掺杂 平面 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种钠掺杂钼平面溅射靶材，其特征在于：由钼原子、钠原子和氧原子组成，其中钼原子数占原子总数的85‑99%，其余为钠原子和氧原子，钠原子和氧原子的数量比为1:2。
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