[发明专利]用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法

摘要

本发明公开一种用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法，该拼接物镜分布于两列，包括：步骤一、将掩模上第一标记组移动到第一列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第一标记组所成像的y向位置r1；步骤二、将掩模上第二标记组移动到第二列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第二标记组所成像的y向位置r2，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r3；步骤三、将掩模上第二标记组从第一列物镜移动到第二列物镜的视场中，得到掩模台的、y向移动a，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r4；步骤四，将基板上第一标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第一标记组的对准位置p1；步骤五，将基板上第二标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第二标记组的对准位置p2；步骤六，根据上述得到的数据计算物镜可动镜片Y向平移距离dy’，以完成镜头校正。

主权项

一种用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法，所述拼接物镜分布于两列，其特征在于，包括：步骤一、将掩模上第一标记组移动到第一列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第一标记组所成像的y向位置r1；步骤二、将掩模上第二标记组移动到第二列物镜的视场中，通过掩模对准，得到掩模上第二标记组所成像的y向位置r2，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r3；步骤三、将掩模上第二标记组从第一列物镜移动到第二列物镜的视场中，得到掩模台的、y向移动a，同时得到掩模上第二标记组的对准位置r4；步骤四，将基板上第一标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第一标记组的对准位置p1；步骤五，将基板上第二标记组移动到基板对准系统下，得到基板上第二标记组的对准位置p2；步骤六，根据上述得到的数据计算物镜可动镜片Y向平移距离dy’，以完成镜头校正。