[发明专利]薄膜基板及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201310104469.5 申请日: 2013-03-28
公开(公告)号: CN104078547A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 周政锋;陈思宇;徐铭鑫 申请(专利权)人: 立诚光电股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/64;H01L33/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;常大军
地址: 中国台湾桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种薄膜基板制作方法,包括:备有一基板,于基板上形成有至少一通孔,在基板及通孔表面上形成一第一金属层,再以压膜曝光显影工艺于第一金属层上形成有一光阻层及一第一开口,第一开口使部分的第一金属层外露。接着,以电镀技术于第一开口及通孔中形成有一第二金属层,再进行磨刷使基板表面平整及去除光阻层及部分第一金属层,使基板上形成一电路线路层及多个部分外露基板的凹槽,再利用网印于电路线路层及凹槽上形成一防焊层,并以曝光显影工艺在防焊层上形成有一第二开口,以外露部分电路线路层。最后,以抛光处理使防焊层高度略低于电路线路层或与电路线路层的高度一样高,在焊接焊锡时,焊锡与防焊层之间不易产生气泡及焊锡发生断裂现象。
搜索关键词: 薄膜 及其 制作方法
【主权项】:
一种薄膜基板制作方法,其特征在于,包括:a)、备有一基板;b)、于该基板上形成有至少一通孔;c)、在该基板及该通孔表面上形成一第一金属层;d)、通过压膜曝光显影工艺于该第一金属层上形成有一光阻层及一第一开口,该第一开口使该第一金属层呈外露;e)、利用电镀技术于该开口及该通孔中形成有一第二金属层;f)、去除光阻层;g)、去除该第二金属层以外区域的第一金属层,以于该基板上形成一电路线路层及多个凹槽;h)、利用网印于该电路线路层及该多个凹槽上形成一防焊层,且以曝光显影工艺于该防焊层形成至少一第二开口,以露出部分电路线路层;及i)、对该防焊层以及该露出部分电路线路层进行一抛光处理,使该防焊层的高度低于该电路线路层或与该电路线路层的高度一样高。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于立诚光电股份有限公司,未经立诚光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310104469.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top