[发明专利]一种CL-20颗粒的圆滑处理装置及圆滑处理方法有效
申请号: | 201310104655.9 | 申请日: | 2013-03-28 |
公开(公告)号: | CN103360185A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 郭学永;张朴;焦清介;张静元;杨毅 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C06B21/00 | 分类号: | C06B21/00 |
代理公司: | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人: | 赵宇 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种CL-20颗粒圆滑处理装置和方法。装置包括圆滑研磨设备、搅拌陈化设备;圆滑研磨腔的出料口与搅拌陈化腔的进料口通过管线相连;搅拌陈化腔的出料口与圆滑研磨腔的进料口通过管线相连,该管线上靠近搅拌陈化腔的位置设置有出料阀,其后管线上设置有物料循环泵。将原料CL-20与研磨溶剂液混合均匀的浆料输入到上述圆滑处理装置中并在圆滑研磨腔和搅拌陈化腔之间进行循环处理,经过充分研磨和陈化的CL-20浆料排出后经过真空抽滤、干燥,最终得到颗粒圆滑的CL-20产品。本发明有效地结合了湿法搅拌磨和溶剂溶解的方法,该装置和方法操作简单,安全性高,生产效率高,可实现对高机械感度CL-20颗粒的圆滑处理。 | ||
搜索关键词: | 一种 cl 20 颗粒 圆滑 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种CL‑20颗粒的圆滑处理装置,包括圆滑研磨设备和搅拌陈化设备,其特征在于:所述圆滑研磨设备包括带有搅拌的研磨腔、研磨腔上盖、圆滑研磨球;研磨腔为上方敞口的空腔结构,研磨腔上盖紧固于研磨腔上方盖住其上方敞口并设置密封,研磨腔上方设有出料口,其底部设有进料口,圆滑研磨球置于研磨腔内;所述搅拌陈化设备包括带有搅拌的陈化腔、陈化腔上盖、陈化研磨球;陈化腔为上方敞口的空腔结构,研磨腔上盖紧固于研磨腔上方盖住其上方敞口并设置密封,陈化腔上方设有进料口,陈化腔底部设有出料口,陈化研磨球置于陈化腔内;所述圆滑研磨球为塑料材质,所述陈化研磨球为橡胶材质;圆滑研磨球的硬度大于陈化研磨球硬度;研磨腔上方的出料口与陈化腔上方的进料口通过管线相连;陈化腔底部的出料口与研磨腔底部的进料口通过管线相连,该管线上靠近陈化腔的位置设置有出料阀,其后管线上设置有物料循环泵。
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