[发明专利]一种化学机械抛光用纳米抛光液有效
| 申请号： | 201310105238.6 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN103146307A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 张楷亮;冯玉林;王芳;任君;孙阔 | 申请（专利权）人： | 天津理工大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人： | 侯力 |
| 地址： | 300384 天津市西青*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光用纳米抛光液。该纳米抛光液包括含氟硼酸盐、纳米研磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水。该纳米抛光液具有稳定性好、易清洗、损伤小、不腐蚀设备等优点。本抛光液适用于半导体领域铪基材料的化学机械抛光。利用上述抛光液对氧化铪进行抛光，抛光速率可控制在100~200nm/min，并且抛光后表面粗糙度可降到1nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 纳米 抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：由氟硼酸盐、纳米磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水组成，各组分的质量百分比为：氟硼酸盐0.1‑2wt%、纳米磨料5‑30wt%、表面活性剂0.01‑2.0wt%、无机酸为调节抛光液pH值至3‑7、溶剂去离子水为余量。
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