[发明专利]光学系统、曝光装置以及设备制造方法无效
申请号: | 201310105985.X | 申请日: | 2013-03-29 |
公开(公告)号: | CN103364963A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 籔伸彦 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B27/40 | 分类号: | G02B27/40;G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种光学系统、曝光装置以及设备制造方法。一种光学系统,配置于物体面至像面的光路,调整将配置于物体面的物体的像投影到像面的投影光学系统的倍率及焦点,具备:第1光学元件,具有与投影光学系统的光轴正交的平面及在平面的相反面的曲面;第2光学元件,具有与第1光学元件的曲面相对的曲面;第3光学元件,具有在与投影光学系统的光轴正交的第1方向拥有母线的圆柱面;第4光学元件,具有在第1方向拥有母线且与第3光学元件的圆柱面相对的圆柱面和在该圆柱面的相反面的、与投影光学系统的光轴正交的平面。第2光学元件在曲面的相反面具有相对第1方向拥有梯度的倾斜平面。第3光学元件在圆柱面的相反面具有与第2光学元件的倾斜平面相对且相对第2光学元件的倾斜平面平行的倾斜平面。 | ||
搜索关键词: | 光学系统 曝光 装置 以及 设备 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学系统,该光学系统被配置在从物体面至像面的光路上,并调整投影光学系统的倍率以及焦点,该投影光学系统将配置于上述物体面的物体的像投影到上述像面,该光学系统具备:第1光学元件,具有与上述投影光学系统的光轴正交的平面以及曲面,在上述平面的相反面具有该曲面;第2光学元件,具有与上述第1光学元件的上述曲面相对置的曲面;第3光学元件,具有在与上述投影光学系统的光轴正交的第1方向上拥有母线的圆柱面;以及第4光学元件,具有在上述第1方向上拥有母线且与上述第3光学元件的上述圆柱面相对置的圆柱面、以及与上述投影光学系统的光轴正交的平面,在该圆柱面的相反面具有该平面,上述第2光学元件在上述曲面的相反面具有相对于上述第1方向拥有梯度的倾斜平面,上述第3光学元件在上述圆柱面的相反面具有与上述第2光学元件的倾斜平面相对置、且相对于上述第2光学元件的上述倾斜平面平行的倾斜平面。
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