[发明专利]一种自清洗腔体有效
| 申请号： | 201310106579.5 | 申请日： | 2013-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN103170486A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 张享倩;王波雷;姬丹丹;李伟;王浩 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及硅片清洗领域，尤其涉及一种自清洗腔体，其包括腔体，自清洗腔体的主体；喷水嘴，清洗时的出水口；排液口，用于排出清洗硅片和腔体时的液体。其中，喷水嘴安装在腔体外部，排液口在腔体下部。喷水嘴有上下两排，其上下位置面对面正对。进液软管的一端在喷水嘴内，没有伸入喷水嘴的部分安装有调压阀，调压阀之前有至少一个手阀或气动阀，腔体上部有排气管。本发明通过调压阀控制进液口的流量，来达到不同的清洁效果；腔体上下侧均设置喷嘴，可以实现均匀清洗；增加排气孔，排出污染空气，减少腔体的污染程度，提高硅片的清洗效率，降低自清洗频率；增加排液口，清洗完成后的废液可以直接通过排液口排出。最终实现腔体的不拆卸清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 | ||
【主权项】：
一种自清洗腔体，其特征在于，其包括腔体，自清洗腔体的主体；喷水嘴，清洗时的出水口；排液口，用于排出清洗硅片和腔体时的液体，其中，喷水嘴安装在腔体外部，排液口在腔体下部。
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