[发明专利]保护带剥离方法和保护带剥离装置有效
申请号: | 201310111302.1 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN103367220B | 公开(公告)日: | 2017-07-25 |
发明(设计)人: | 松下孝夫;方田真;长田典祥 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供一种保护带剥离方法和保护带剥离装置。将以短于晶圆的直径的规定间距供给的剥离带以规定宽度粘贴于保护带表面的剥离开始侧,在将剥离带粘贴于保护带的剥离开始侧后,一边使剥离带返回到供给侧,一边将保护带与剥离带一体地从晶圆的表面剥离,在剥离工序中,将通过上次的剥离处理而粘贴于返回的剥离带上的保护带的背面粘贴在作为剥离对象的保护带上的粘接带上,将剥离完成后的叠合的保护带向卷取方向送出,一边重复进行保护带的剥离处理和将该保护带叠合地粘贴的处理,一边进行卷取回收。 | ||
搜索关键词: | 保护 剥离 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种保护带剥离方法,在该保护带剥离方法中,能够针对多个半导体晶圆连续地执行将粘贴在半导体晶圆上的保护带剥离的剥离处理,其中,上述保护带剥离方法包括以下的工序:第1粘贴工序,将粘接介质粘贴于上述保护带表面的剥离开始侧和剥离终止侧中的至少剥离终止侧;第2粘贴工序,以规定宽度将以短于上述半导体晶圆的直径的规定间距供给的剥离带粘贴于保护带表面的剥离开始侧;剥离工序,在将剥离带粘贴于上述保护带的剥离开始侧后,一边使该剥离带返回到供给侧,一边将保护带与剥离带一体地从半导体晶圆的表面剥离;在剥离处理是针对第2张以后的半导体晶圆进行的情况下,所述保护带剥离方法还具有第3粘贴工序,在所述第3粘贴工序中,将在上述剥离工序中通过上次的剥离处理而粘贴于返回的剥离带上的剥离完成后的保护带的背面粘贴在本次的剥离处理的作为剥离对象的保护带上的粘接介质上;以及送出工序,将剥离完成后的叠合的上述保护带向卷取方向送出,一边重复进行上述保护带的剥离工序和将该保护带叠合地粘贴的工序,一边进行卷取回收。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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