[发明专利]检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置和方法有效
| 申请号： | 201310113487.X | 申请日： | 2013-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN103196389A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 冯婕;邓超;姚政鹏;邢廷文 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置，包括在实验平台上安装干涉仪、标准镜头、被检测计算全息基片和参考球面镜，标准镜头、被检测计算全息基片和参考球面镜依次位于来自干涉仪的准直光路中，并且它们的旋转中心轴与准直光束中心轴重合；参考球面镜，用于将经被检测计算全息基片转换后的波面反射回干涉仪中，转换后的波面为测试波，将转换后的波面与标准镜头提供的参考波面进行干涉，得到包含被检测计算全息基片的面形误差和材料不均匀性误差的干涉图。本发明还提供一种检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的方法。本发明有助于实现非球面的高精度检测，适用于对非球面面形进行高精度检测和计量。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 计算 全息 片面 材料 不均匀 误差 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置，其特征在于：所述装置包括：在实验平台(1)上安装干涉仪(2)、标准镜头(3)、被检测计算全息基片(4)和参考球面镜(5)，其中，标准镜头(3)、被检测计算全息基片(4)和参考球面镜(5)依次位于来自干涉仪(2)的准直光路中，并且它们的旋转中心轴与准直光束中心轴重合，其中：干涉仪(2)，用于提供一束准直光；标准镜头(3)，用于将准直光束进行会聚并提供标准球面波面和用于干涉的参考波面；被检测计算全息基片(4)，将从标准镜头(3)出射的标准球面波面转换成与参考球面镜(5)面形一致的波面，以及将由参考球面镜(5)反射回的波面转换为球面波；参考球面镜(5)，用于将经被检测计算全息基片(4)转换后的波面反射回干涉仪(2)中，转换后的波面为测试波，将转换后的波面与标准镜头(3)提供的参考波面进行干涉，得到包含被检测计算全息基片(4)的面形误差和材料不均匀性误差干涉图。
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