[发明专利]一种在低纬度高海拔地区提高大樱桃丰产的栽培方法无效
| 申请号： | 201310117267.4 | 申请日： | 2013-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN103168598A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 李黎辉 | 申请（专利权）人： | 昆明东山林果科技开发有限公司 |
| 主分类号： | A01G1/00 | 分类号： | A01G1/00;A01G17/00 |
| 代理公司： | 云南派特律师事务所 53110 | 代理人： | 张怡 |
| 地址： | 650402 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在低纬度高海拔地区提高大樱桃丰产的栽培方法，属于大樱桃人工栽培技术领域。其方法包括以下步骤：a、起垄：在种植有大樱桃树的行上起垄，该垄的高度为15～45cm，宽度为100～180cm；b、施肥覆膜：在秋季时，挖开靠近树根的地垄施肥后掩埋，然后浇水，再用园艺地布进行覆盖；c、喷灌：在树冠上部增设微喷设施，在春季花前至幼果期期间，气温≥22℃时，启动微喷设施，进行喷雾降温至15～21℃。本发明的有益效果是：能在低纬度高海拔地区提高大樱桃的产量，从而增加经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低纬度 海拔 地区 提高 大樱桃 丰产 栽培 方法 | ||
【主权项】：
一种在低纬度高海拔地区提高大樱桃丰产的栽培方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：a、起垄：在种植有大樱桃树的行上起垄，该垄的高度为15～45cm，宽度为100～180cm；b、施肥覆膜：在秋季时，挖开靠近树根的地垄进行施肥后掩埋，然后浇水，再用园艺地布进行覆盖；c、喷灌：在树冠上部增设微喷设施，在春季花前至幼果期期间，气温≥22℃时，启动微喷设施，进行喷雾降温至15～21℃。
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