[发明专利]一种托盘和包含该托盘的反应腔

摘要

本发明公开了一种托盘。采用若干个具有内凹的边的岛状结构形成凹槽，用来固定和定位基板，所述内凹边上具有内凹的凹陷，以减少岛状结构与基板边缘的接触面积，保障基板边缘与岛状结构均匀接触，从而减少基板的边缘与岛状结构因为接触热传导获得的热量，提高基板的温度的均匀性，也使得基板周围的温度分布更加均匀。本发明还提供一种包括上述托盘的反应腔，能够在CVD过程中保持基板温度的均匀性，同时维持较佳的温度场，有利于提高沉积膜层的质量。

主权项

一种托盘，用于承载多个基板进行CVD过程，其特征在于：所述托盘具有若干个岛状结构，所述岛状结构呈多边形，并且具有内凹的边，至少三个所述岛状结构的内凹边围成一凹槽，其中所述内凹边上具有内凹的凹陷。