[发明专利]气体供应装置及等离子体处理装置

摘要

本发明公开了一种等离子体处理装置，包括等反应腔体和水平设置于反应腔体上方的气体供应装置，所述气体供应装置包括环形主体、用于引入反应气体的气体入口、嵌设于所述环形主体内与所述气体入口连通的一个气体通道以及用于排出所述反应气体的多个喷气孔。所述喷气孔的进气口与所述气体通道相连，出气口设于所述环形主体的内侧壁上，其中，所述喷气孔的出气口位于所述气体通道上方，且所述喷气孔的轴心线与所述气体供应装置的轴心线形成第一夹角。本发明能够有效提高反应气体的解离度及产生的等离子体的密度。

主权项

一种等离子体处理装置，包括反应腔体、水平设置于所述反应腔体上方的气体供应装置，以及用于在所述反应腔体内产生射频电场的射频功率源，其特征在于，所述气体供应装置包括：环形主体；气体入口，用于将所述反应腔体外的反应气体引入所述反应腔体内；一个气体通道，嵌设于所述环形主体内，与所述气体入口连通；以及多个喷气孔，用于将所述气体通道中的所述反应气体排出到所述反应腔体内，所述喷气孔的进气口与所述气体通道相连，出气口设于所述环形主体的内侧壁上且位于所述气体通道的上方；其中，所述喷气孔的轴心线与所述环形主体的轴心线形成为锐角的第一夹角，且在所述环形主体的水平面上所述喷气孔的投影与所述进气口的投影至所述环形主体中心的连线形成第二夹角，使得所述反应气体以向上喷出后经回旋再下降的方式经过所述射频电场。