[发明专利]一种可延长密封器件候检时间的质谱检漏预充氦法有效

专利信息
申请号: 201310130023.X 申请日: 2013-04-15
公开(公告)号: CN103207050A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 薛大同;肖祥正;王庚林 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所
主分类号: G01M3/20 分类号: G01M3/20
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 代理人: 夏晏平
地址: 730013 甘*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种可延长密封器件候检时间的质谱检漏预充氦法,用于判断被检预充氦密封器件的漏率指标是否合格,属于真空检漏与仪器技术领域。解决了候检时间长,从而可能存在的大漏孔处于分子流状态,不能靠粗检鉴别的问题,从而保持了预充氦法的主导地位,而将压氦法复检加粗检作为预充氦法的附属措施,以便保持预充氦法最小可检等效标准漏率比压氦法低好几个量级的优点。本发明所采用的技术方案途径是分析并穷举各种判断走向,一一采取相应的方法、制定相应的判据,其特点是对作为预充氦法附属措施的压氦法复检加粗检赋予一项新的重要职能,从而显著提高了可检测性。
搜索关键词: 一种 可延长 密封 器件 时间 检漏 预充氦法
【主权项】:
一种可延长密封器件候检时间的质谱检漏预充氦法,由氦质谱细检漏装置完成,其特征是:计算预充氦法候检时间t2i的两个特征点t2i, cp1和t2i, cp2,并判断t2i ≤ t2i, cp1、抑或t2i, cp1 < t2i ≤ t2i, cp2、抑或t2i > t2i, cp2,作为第一级判断;对该器件实施预充氦法检漏,获得预充氦法测量漏率Ri,计算预充氦法的任务允许的最大标准漏率Lmax所对应的测量漏率Ri, Lmax,并判断Ri > Ri, Lmax、抑或Ri ≤ Ri, Lmax,作为第二级判断;在t2i, cp1 < t2i ≤ t2i, cp2且Ri ≤ Ri, Lmax、抑或t2i > t2i, cp2的情况下,对该器件实施作为预充氦法附属措施的压氦法复检加粗检,在压氦法复检前,计算压氦法复检的最长候检时间t2e, max,压氦法复检的候检时间t2e不能超过t2e, max;通过压氦法复检获得扣除本底后的测量漏率Re,计算Ri与等效标准漏率L的关系曲线极大值点Li, M在Re~L关系曲线中所对应的测量漏率Re_Li, M,并判断Re > Re_Li, M抑或Re ≤ Re_Li, M,作为第三级判断;在同时具备t2i > t2i, cp2、Ri > Ri, Lmax、Re > Re_Li, M三个条件的情况下,计算Lmax在Re~L关系曲线中所对应的测量漏率Re, max,并判断Re ≤ Re, max、抑或Re > Re, max,作为第四级判断;氦质谱细检漏装置可显示的密封器件测量漏率有一个下限Rmin,为了保证Re_Li, M可测,必须Re_Li, M ≥ Rmin,为此t2i有一个上限t2i, max,这是实施第三级判断的附加条件;若不满足上述附加条件,即t2i > t2i, max,则在t2i, cp1 < t2i ≤ t2i, cp2且Ri ≤ Ri, Lmax、抑或t2i > t2i, cp2的情况下,对该器件实施压氦法复检加粗检后,不执行第三级判断,计算Re, max,并判断Re ≤ Re, max、抑或Re > Re, max,作为代替第三级判断的支路,且此支路不会进入第四级判断;下述情况下漏率合格:a. 同时具备t2i ≤ t2i, cp1、Ri ≤ Ri, Lmax、粗检不漏三个条件;b. 同时具备t2i, cp1 < t2i ≤ t2i, cp2、Ri ≤ Ri, Lmax、t2i ≤ t2i, max、Re ≤ Re_Li, M、粗检不漏五个条件;c. 同时具备t2i > t2i, cp2、t2i ≤ t2i, max、Ri ≤ Ri, Lmax、Re ≤ Re_Li, M、粗检不漏五个条件;d. 同时具备t2i > t2i, cp2、t2i ≤ t2i, max、Ri > Ri, Lmax、Re ≤ Re_Li, M、粗检不漏五个条件;e. 同时具备t2i > t2i, cp2、t2i ≤ t2i, max、Ri > Ri, Lmax、Re > Re_Li, M、Re ≤ Re, max、粗检不漏六个条件;f. 同时具备t2i, cp1 < t2i ≤ t2i, cp2、Ri ≤ Ri, Lmax、t2i > t2i, max、Re ≤ Re, max、粗检不漏五个条件;g. 同时具备t2i > t2i, cp2、t2i > t2i, max、Re ≤ Re, max、粗检不漏四个条件;其余情况漏率不合格。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所,未经中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310130023.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top