[发明专利]P型硅衬底异质结电池有效

专利信息
申请号: 201310134091.3 申请日: 2013-04-18
公开(公告)号: CN103227228A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 包健;郭万武;余冬冬 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: H01L31/075 分类号: H01L31/075;H01L31/0352
代理公司: 常州市科谊专利代理事务所 32225 代理人: 孙彬
地址: 213022 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种P型硅衬底异质结电池,它包括一P型晶体硅衬底层、一本征非晶硅层、一N型非晶硅层、一P型非晶硅掺杂层、一第一透明导电层、一上电极层、一本征非晶硅锗钝化层、一第二透明导电层和一背电极层,P型晶体硅衬底层具有一正面和一背面;本征非晶硅层沉积在P型晶体硅衬底层的正面上;N型非晶硅层沉积在本征非晶硅层的上表面上;第一透明导电层位于N型非晶硅层的上表面上;本征非晶硅锗钝化层沉积在P型晶体硅衬底层的背面上;P型非晶硅掺杂层沉积在本征非晶硅锗钝化层的下表面上;第二透明导电层位于P型非晶硅掺杂层的下表面上;背电极层位于第二透明导电层的下表面上并通过第二透明导电层与P型非晶硅掺杂层电性连接。本发明可以增加空穴在衬底背面的跃迁几率,增加载流子的收集利用,增加短路电流,提升电池的转换效率。
搜索关键词: 衬底 异质结 电池
【主权项】:
一种P型硅衬底异质结电池,其特征在于,它包括:一P型晶体硅衬底层(1),其具有一正面和一背面;一本征非晶硅层(2),沉积在P型晶体硅衬底层(1)的正面上;一N型非晶硅层(3),沉积在本征非晶硅层(2)的上表面上;一第一透明导电层(4),位于N型非晶硅层(3)的上表面上;一上电极层(5),位于第一透明导电层(4)的上表面上并通过第一透明导电层(4)与N型非晶硅层(3)电性连接;一本征非晶硅锗钝化层(6),沉积在P型晶体硅衬底层(1)的背面上;一P型非晶硅掺杂层(7),沉积在本征非晶硅锗钝化层(6)的下表面上;一第二透明导电层(8),位于P型非晶硅掺杂层(1)的下表面上;一背电极层(9),位于第二透明导电层(8)的下表面上并通过第二透明导电层(8)与P型非晶硅掺杂层(7)电性连接。
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