[发明专利]一种使深紫外光学薄膜具有光学稳定性的处理方法无效
| 申请号： | 201310134863.3 | 申请日： | 2013-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103235353A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 金春水;常艳贺;李春;邓文渊;靳京城 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种使深紫外光学薄膜具有光学稳定性的处理方法，该方法包括以下步骤：去除需要镀膜的衬底表面的吸附物；应用先进等离子体源对真空室中的衬底进行预处理，以清理衬底表面的附着物；根据薄膜的膜系结构，在清洗后的衬底上，采用热舟蒸发沉积工艺进行深紫外氟化物多层膜的制备，实现深紫外光学薄膜的设计光谱；利用先进等离子体源，以异于预处理的能量密度对沉积后的薄膜再次进行轰击处理。本发明的处理方法可以很好地解决了现有技术中的不足，在确保光学性能的前提下有效的改善了薄膜的光学稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 深紫 光学薄膜 具有 光学 稳定性 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种使深紫外光学薄膜具有光学稳定性的处理方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤i：去除需要镀膜的衬底表面的吸附物；步骤ii：应用先进等离子体源对真空室中的衬底进行预处理，以清理衬底表面的附着物；步骤iii：根据薄膜的膜系结构，在清洗后的衬底上，采用热舟蒸发沉积工艺进行深紫外氟化物多层膜的制备，实现深紫外光学薄膜的设计光谱；步骤iv：利用先进等离子体源，以异于步骤ii中的预处理的能量密度对沉积后的薄膜再次进行轰击处理。
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