[发明专利]用于光刻对准的系统和方法有效
| 申请号： | 201310136360.X | 申请日： | 2013-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103913960A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 林育贤;谢弘璋;许峰嘉;李俊毅 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供用于集成电路制造的光刻系统的一个实施例。该系统包括衬底工作台，被设计成固定衬底并且可操作地移动衬底；对准模块，包括可操作地生成波长可调节的红外光的可调光源；和接收光的检测器；以及曝光模块，与对准模块集成并且被设计成对涂覆在衬底上的抗蚀层实施曝光处理。本发明还提供了用于光刻对准的系统和方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 对准 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于集成电路制造的光刻系统，包括：衬底工作台，被设计成固定衬底并且可操作地移动所述衬底；对准模块，包括可操作地生成波长可调节的红外(IR)光的可调光源和接收所述光的检测器；以及曝光模块，与所述对准模块集成并且被设计成对涂覆在所述衬底上的抗蚀层实施曝光处理。
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