[发明专利]发光装置及投影系统有效
| 申请号： | 201310138442.8 | 申请日： | 2013-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN104049445A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 胡飞;侯海雄 | 申请（专利权）人： | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/00;F21V13/00;G02B27/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种发光装置及投影系统，包括：激光阵列光源，该激光阵列光源包括非发光区域和由多个激光元件组成的发光区域；反射聚光系统，该反射聚光系统包括聚光区域和非聚光区域，该聚光区域用于对激光阵列光源的出射光进行聚焦并反射；光收集系统，该光收集系统用于收集反射聚光系统的出射光并出射；光收集系统、非发光区域以及非聚光区域位于平行于激光阵列光源出射光光轴的同一直线上，且光收集系统经过非发光区域和/或非聚光区域。本发明实施例提供了一种小体积并出射高亮度均匀光斑的发光装置及投影系统。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 投影 系统 | ||
【主权项】：
一种发光装置，其特征在于，包括：激光阵列光源，该激光阵列光源包括非发光区域和由多个激光元件组成的发光区域；反射聚光系统，该反射聚光系统包括聚光区域和非聚光区域，该聚光区域用于对所述激光阵列光源的出射光进行聚焦并反射；光收集系统，该光收集系统用于收集所述反射聚光系统的出射光并出射；所述光收集系统、非发光区域以及非聚光区域位于平行于所述激光阵列光源出射光光轴的同一直线上，且所述光收集系统经过所述非发光区域和/或所述非聚光区域。
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