[发明专利]一种超填孔镀铜工艺在审
申请号: | 201310139989.X | 申请日: | 2013-04-22 |
公开(公告)号: | CN104109886A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 谢金平;肖宁;范小玲;李宁 | 申请(专利权)人: | 广东致卓精密金属科技有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38;C25D7/00 |
代理公司: | 佛山东平知识产权事务所(普通合伙) 44307 | 代理人: | 詹仲国 |
地址: | 528200 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种超填孔镀铜工艺,其特征在于,它包括如下步骤:a、将待镀的盲孔板在稀硫酸溶液中活化处理1-10min,水洗、吹干后,将待镀板垂直固定于1500mL赫尔槽的中间位置,槽两端放置磷含量为0.04-0.065%的磷铜板为阳极;b、配制镀液;c、通电开始电镀,先在0.5-2ASD的电流密度下电镀5-30min,然后将电流密度增大至0.5-4ASD,继续电镀10-20min,整个电镀过程在静态下完成,时至,断电,取出阴极盲孔板,用蒸馏水冲洗,冷风吹干后,即得样品。本发明可以在镀液完全没有强制对流的情况下,在不增加面铜的厚度的同时,保证盲孔具有较高的填孔率。 | ||
搜索关键词: | 一种 超填孔 镀铜 工艺 | ||
【主权项】:
一种超填孔镀铜工艺,其特征在于,它包括如下步骤:a、将待镀的盲孔板在稀硫酸溶液中活化处理1 ‑ 10 min,水洗、吹干后,将待镀板垂直固定于1500 mL赫尔槽的中间位置,槽两端放置磷含量为0.04 ‑ 0.065 %的磷铜板为阳极;b、配制镀液,基础液由100 ‑ 250 g/L 的CuSO4·5H2O、40 ‑ 50 g/L的H2SO4和10 ‑ 200 ppm的Cl‑离子组成,在不断搅拌的情况下,向基础液中顺序加入5 ‑ 50 mL的抑制剂、1 ‑ 10 mL的加速剂,以及0.5 ‑ 5 mL的整平剂,然后加入去离子水定容为1500 mL,混合均匀后,缓慢注入赫尔槽中,静置1 ‑ 20 min,使镀液充分润湿盲孔;c、通电开始电镀,先在0.5 ‑ 2 ASD的电流密度下电镀5 ‑ 30 min,然后将电流密度增大至0.5 ‑ 4 ASD,继续电镀10 ‑ 20 min,整个电镀过程在静态下完成,时至,断电,取出阴极盲孔板,用蒸馏水冲洗,冷风吹干后,即得样品。
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