[发明专利]一种超填孔镀铜工艺在审

专利信息
申请号: 201310139989.X 申请日: 2013-04-22
公开(公告)号: CN104109886A 公开(公告)日: 2014-10-22
发明(设计)人: 谢金平;肖宁;范小玲;李宁 申请(专利权)人: 广东致卓精密金属科技有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D7/00
代理公司: 佛山东平知识产权事务所(普通合伙) 44307 代理人: 詹仲国
地址: 528200 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种超填孔镀铜工艺,其特征在于,它包括如下步骤:a、将待镀的盲孔板在稀硫酸溶液中活化处理1-10min,水洗、吹干后,将待镀板垂直固定于1500mL赫尔槽的中间位置,槽两端放置磷含量为0.04-0.065%的磷铜板为阳极;b、配制镀液;c、通电开始电镀,先在0.5-2ASD的电流密度下电镀5-30min,然后将电流密度增大至0.5-4ASD,继续电镀10-20min,整个电镀过程在静态下完成,时至,断电,取出阴极盲孔板,用蒸馏水冲洗,冷风吹干后,即得样品。本发明可以在镀液完全没有强制对流的情况下,在不增加面铜的厚度的同时,保证盲孔具有较高的填孔率。
搜索关键词: 一种 超填孔 镀铜 工艺
【主权项】:
一种超填孔镀铜工艺,其特征在于,它包括如下步骤:a、将待镀的盲孔板在稀硫酸溶液中活化处理1 ‑ 10 min,水洗、吹干后,将待镀板垂直固定于1500 mL赫尔槽的中间位置,槽两端放置磷含量为0.04 ‑ 0.065 %的磷铜板为阳极;b、配制镀液,基础液由100 ‑ 250 g/L 的CuSO4·5H2O、40 ‑ 50 g/L的H2SO4和10 ‑ 200 ppm的Cl离子组成,在不断搅拌的情况下,向基础液中顺序加入5 ‑ 50 mL的抑制剂、1 ‑ 10 mL的加速剂,以及0.5 ‑ 5 mL的整平剂,然后加入去离子水定容为1500 mL,混合均匀后,缓慢注入赫尔槽中,静置1 ‑ 20 min,使镀液充分润湿盲孔;c、通电开始电镀,先在0.5 ‑ 2 ASD的电流密度下电镀5 ‑ 30 min,然后将电流密度增大至0.5 ‑ 4 ASD,继续电镀10 ‑ 20 min,整个电镀过程在静态下完成,时至,断电,取出阴极盲孔板,用蒸馏水冲洗,冷风吹干后,即得样品。
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