[发明专利]一种波像差测量装置有效
申请号: | 201310140324.0 | 申请日: | 2013-04-22 |
公开(公告)号: | CN104111161B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 马明英 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提出一种波像差测量装置,用于光刻装置投影物镜波像差的测量,包括光源;照明系统,所述光源发出的光经所述照明系统后形成照明光束入射到所述投影物镜物面的物面掩模;物面掩模,包括小孔标记,所述照明光束经所述小孔衍射形成理想球面波;投影物镜,所述理想球面铂金所属物镜后形成携带有所述投影物镜波像差的球面波投射到像面探测单元;像面探测单元对所述携带有投影物镜波像差的球面波进行探测以获取所述投影物镜波像差信息,其特征在于所述像面探测单元包括基底及探测器,所述基底上表面包含光栅标记,下表面包含窗口标记,所述携带有投影物镜波像差的球面波进所述光栅标记衍射产生+1级光与‑1级光会聚于基底下表面上的窗口标记,经所述窗口标记后所述+1级光与‑1级光重叠干涉形成干涉图像,所述干涉图像被所述探测器记录。 | ||
搜索关键词: | 一种 波像差 测量 装置 | ||
【主权项】:
一种波像差测量装置,用于光刻装置投影物镜波像差的测量,包括:光源;照明系统,所述光源发出的光经所述照明系统后形成照明光束入射到所述投影物镜物面的物面掩模;物面掩模,包括小孔标记,所述照明光束经所述小孔衍射形成理想球面波;投影物镜,所述理想球面波经所述投影物镜后形成携带有所述投影物镜波像差的球面波投射到像面探测单元;像面探测单元对所述携带有投影物镜波像差的球面波进行探测以获取所述投影物镜波像差信息,其特征在于:所述像面探测单元包括基底及探测器,所述基底上表面包含光栅标记,下表面包含窗口标记,所述携带有投影物镜波像差的球面波进所述光栅标记衍射产生+1级光与‑1级光会聚于基底下表面上的窗口标记,经所述窗口标记后所述+1级光与‑1级光重叠干涉形成干涉图像,所述干涉图像被所述探测器记录;所述基底的下表面与所述投影物镜的最佳焦面重合;所述光栅标记包括第一子光栅标记及第二子光栅标记,所述第一子光栅标记沿第一方向分布,所述第二子光栅标记沿第二方向分布,所述第一方向与第二方向垂直;所述第一、第二子光栅周期相同,均包括两个透光区与两个不透光区,所述透光区与不透光区间隔设置,所述透光区与不透光区的标记线宽相等;经过所述两个透光区的光束的光程相差180度。
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