[发明专利]高分辨率高纯度光栅单色仪分光结构无效

专利信息
申请号: 201310140375.3 申请日: 2013-04-22
公开(公告)号: CN103226244A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 方伟;赵维宁;杨振岭 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G02B27/10 分类号: G02B27/10;G01J3/02
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 南小平
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 高分辨率高纯度光栅单色仪分光结构,属于光栅分光技术领域,为解决现有光栅单色仪像差较大、校正设计复杂及离轴装配误差大的问题,本发明结构包括光孔狭缝、第一准直抛物镜、第一全息光栅、第一聚光抛物镜、光阑狭缝、第二准直抛物镜、第二全息光栅、第二聚光抛物镜和狭缝,光孔狭缝位于第一准直抛物镜的焦点处,光阑狭缝位于第一聚光抛物镜和第二准直抛物镜的焦点处,狭缝位于第二聚光抛物镜焦点处;光从光孔狭缝入射到第一准直抛物镜上出射平行光,平行光入射到第一全息光栅上反射,反射光入射到第一聚光抛物镜上,光经过第一聚光抛物镜会聚至光阑狭缝再出射,出射光依次经过第二准直抛物镜、第二全息光栅和第二聚光抛物镜,光最终会聚到狭缝。
搜索关键词: 高分辨率 纯度 光栅 单色仪 分光 结构
【主权项】:
高分辨率高纯度光栅单色仪分光结构,其特征是,包括光孔狭缝(1)、第一准直抛物镜(2)、第一全息光栅(3)、第一聚光抛物镜(4)、光阑狭缝(5)、第二准直抛物镜(6)、第二全息光栅(7)、第二聚光抛物镜(8)和狭缝(9),光孔狭缝(1)位于第一准直抛物镜(2)的焦点处,光阑狭缝(5)位于第一聚光抛物镜(4)和第二准直抛物镜(6)的焦点处,狭缝(9)位于第二聚光抛物镜(8)焦点处;从光孔狭缝(1)出射的光入射到第一准直抛物镜(2)上出射平行光,平行光入射到第一全息光栅(3)上反射,反射光入射到第一聚光抛物镜(4)上,光经过第一聚光抛物镜(4)会聚至光阑狭缝(5)再出射,出射光依次经过第二准直抛物镜(6)、第二全息光栅(7)和第二聚光抛物镜(8),光最终会聚到狭缝(9);第二准直抛物镜(6)、第二全息光栅(7)、第二聚光抛物镜(8)和狭缝(9)组成的逆光路系统,与之前的系统关于光阑狭缝(5)旋转对称,互为对称的各光学元件完全相同。
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