[发明专利]层压用水系基底处理剂和基底处理方法以及基底处理材料有效

专利信息
申请号: 201310145716.6 申请日: 2013-04-24
公开(公告)号: CN103374265B 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 桥本大祐;渡边拓郎 申请(专利权)人: 昭和电工包装株式会社
主分类号: C09D105/08 分类号: C09D105/08;C09D7/12;B32B15/04;H01M2/02
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 段承恩,田欣
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供层压用水系基底处理剂和基底处理方法以及基底处理材料。本发明涉及的层压用水系基底处理剂含有壳聚糖衍生物、分子内具有至少1个羧基的羧基化合物和水,壳聚糖衍生物/羧基化合物的含有质量比为1.0/0.5~1.0/3.0的范围。本发明的层压用水系基底处理剂可以形成耐HF性、耐电解质性和耐溶剂性优异,并且可以长期充分地确保在汽车用锂离子二次电池等的壳体用包装材料、极耳引线等所要求的更苛刻环境下的层压密合性的基底皮膜。
搜索关键词: 层压 水系 基底 处理 方法 以及 材料
【主权项】:
一种层压用水系基底处理剂,其特征在于,含有壳聚糖衍生物、分子内具有至少1个羧基的羧基化合物和水,所述壳聚糖衍生物/所述羧基化合物的质量比为1.0/0.5~1.0/3.0的范围,所述壳聚糖衍生物中的取代基导入率是壳聚糖的每单体单元为0.3个~3.0个,所述壳聚糖衍生物的重均分子量为1万~100万。
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