[发明专利]一种等离子体沉积及刻蚀系统

摘要

一种等离子体沉积及刻蚀系统，包括：腔体、设置在腔体内的阴极载物台，上栅极，加热装置，其中，还包括用于冷却上栅极的冷却装置；用于为上栅极、加热装置以及加热装置、阴极之间提供偏压的偏压电源。其通过采用多根平行、均匀分布的灯丝作为加热装置，提升了加热效率和加热的稳定性，实现了大面积均匀温度场的分布，为大面积薄膜样品的沉积提供条件；在灯丝的上部设置有上栅极，有利于促进等离子体的形成，降低起辉阈值，通过调节栅极电压，可以通过调节等离子体的浓度从而增加工艺的可控性；在上栅极、阴极和腔体侧壁设置循环水冷系统，保证了装置的稳定性；增加了偏压电源控制系统，保证了系统所需电压的稳定输出，满足刻蚀功能的需要。

主权项

一种等离子体沉积及刻蚀系统，包括：腔体、设置在腔体内的阴极载物台，上栅极，加热装置，其特征在于，还包括用于冷却上栅极的冷却装置；用于为上栅极、加热装置以及加热装置、阴极之间提供偏压的偏压电源。