[发明专利]一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法以及显示装置有效
申请号: | 201310148632.8 | 申请日: | 2013-04-25 |
公开(公告)号: | CN103257475A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 陈玉琼;尹大根;王英;李圭铉;王丹 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法及显示装置。该彩膜基板包括基板、黑矩阵以及不同颜色的彩膜层,黑矩阵设置在基板上,基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成亚像素区,彩膜层设置在亚像素区内,所述彩膜层包括间隔设置的多个高亮透光部,高亮透光部的光线透过率大于彩膜层其它部分的光线透过率。该彩膜基板的制备方法包括采用构图工艺形成彩膜层的步骤,其中,彩膜层中设置有高亮透光部。所述高亮透光部通过降低自身的色阻,从而提高了彩膜基板的光线透过率,同时改善了显示装置的显示效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 制备 方法 以及 显示装置 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板,包括基板、黑矩阵以及不同颜色的彩膜层,所述黑矩阵设置在所述基板上,所述基板上未被所述黑矩阵覆盖的地方形成亚像素区,所述彩膜层设置在所述亚像素区内,其特征在于,所述彩膜层包括间隔设置的多个高亮透光部,所述高亮透光部的光线透过率大于所述彩膜层其它部分的光线透过率。
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