[发明专利]钕玻璃激活反射镜的制备方法

摘要

一种钕玻璃激活反射镜的制备方法，该激活反射镜具备以下光谱特征：1053nm处，57°水平偏振分量的反射率大于99.5%，0°入射550nm-900nm透射率大于90%，0°入射1053nm的透射率大于30%。该激活反射镜的制备方法包括真空室外清洗、离子束清洗、薄膜沉积等步骤。本发明激活反射镜的制备工艺简单，工艺重复性好，与传统的透射式使用相比，可以获得双倍增益，光路系统的排布更加灵活，完全可以应用于基于反射式包边钕玻璃的高功率激光系统。

主权项

一种钕玻璃激活反射镜的制备方法，其特征在于该方法的具体步骤如下：①清洗：将包边钕玻璃使用弱碱性溶液浸泡，然后用高纯度石油醚和丙酮混合溶液进行清洗，再置于100级超净台自然干燥，得到清洁干燥的包边钕玻璃，所述的弱碱性溶液的PH值为7.5～8，该石油醚和丙酮混合溶液的纯度大于99.999%，体积比2:1；②离子束清洗：将所述的清洁干燥的包边钕玻璃置于高真空镀膜机的装夹基片的夹具上，关闭真空室门，使用真空泵组对镀膜机抽真空，待真空优于2×10‑3Pa时，打开离子源，对包边钕玻璃基片表面进行清洗，离子源使用氩气及氧气混合气体，其纯度大于99.999%，流量比为3:1，离子源的工作电压为140V，束流为50A，清洗时间为5‑15分钟；③薄膜制备：离子源真空室清洗完成后，使用电子束蒸发离子束辅助技术在钕玻璃基片上交替沉积Ta2O5/SiO2薄膜，薄膜的膜系结构为（HL）nH0.5L，其中H表示Ta2O5膜层，L表示SiO2膜层，H和L层的光学厚度300nm～313nm，n表示HL层交替沉积次数，n>15，在镀制Ta2O5时，氧气充入量为20～25sccm，辅助离子源的参数为：偏压100～120V，电流40～50A，Ta2O5沉积速率为0.4～0.6nm/s；制备SiO2时，氧气充入量为4‑6sccm，辅助离子源的参数为：偏压130～150V，电流40～50A，SiO2的沉积速率为0.6～0.8nm/s。